오래 전에 사용하던 공정의 PDK를 사용하여 레이아웃 할 때는 XL 기능으로 device를 레이아웃 창에 뿌린 후 기껏해야 source, drain, gate의 contact을 그릴지 말 지 또는 tap위치 선택 등 간단하게 parameter option들을 수정했었는데, 공정이 복잡해지면서 FINFET 공정에서는 parameter option이 불편함을 느낄 정도로 많아지게 되었다.특히 7~8nm node 이하에서는 dummy poly 관련 option도 많아지고, poly to metal 사이의 intermeidate metal 관련 option, cut poly option 등이 수도 없이 추가되면서 device 하나의 option을 내가 원하는 option으로 설정하는 일이 너무 귀찮게 느껴진다...